此次,新帕泰克將繼續(xù)參加6月2至4日在上海新博覽中心舉辦的世界制藥原料中國(guó)展(CPhI & ICSE China 2010),現(xiàn)場(chǎng)為廣大客戶展示從實(shí)驗(yàn)室至工業(yè)在線粒度控制技術(shù),為解決美國(guó)FDA對(duì)醫(yī)藥生產(chǎn)提出的PAT(Process Analytical Technology)過程分析技術(shù)要求,提供的過程控制手段。
公司展位為E1C05,屆時(shí)將攜全自動(dòng)干濕二合一激光粒度儀HELOS/OASIS(測(cè)試范圍0.1-3500μm)、動(dòng)態(tài)粒度粒形分析儀QICPIC(測(cè)試范圍1-20000μm)、納米激光粒度儀NANOPHOX(測(cè)試范圍1-10000nm)、超聲衰減粒度儀OPUS(0.01-3000μm),并有德國(guó)總部工程師與中國(guó)工程師在現(xiàn)場(chǎng)為您做的介紹與解答。
誠(chéng)摯歡迎各界人士的蒞臨!
掃一掃,關(guān)注我們